ASML y Zeiss ya piensan en Hyper-NA: la litografía que llegará en diez años

En la industria de los semiconductores no hay tiempo para detenerse a disfrutar del resultado. Fabricar los circuitos más avanzados exige máquinas fruto de años de investigación e inversiones enormes. Sin embargo, justo cuando la tecnología High-NA EUV empieza a llegar a las plantas de producción, los científicos ya están buscando cómo imprimir detalles todavía más pequeños.

El fabricante neerlandés ASML y su socio óptico alemán ZEISS ya le han puesto nombre a su próximo desafío: Hyper-NA. Se trata de la propuesta con la que investigan cómo ir más allá de las capacidades que ofrecen las máquinas actuales de litografía con luz ultravioleta extrema (EUV).

Eso sí, que nadie espere ver esta tecnología funcionando mañana mismo. Este proyecto se ha dado a conocer a través de un estudio científico revisado por pares del que Reuters se hizo eco el 8 de octubre, y ASML estima que podrían pasar aproximadamente diez años antes de que esté lista.

Todo esto deja claro que los tiempos del laboratorio y los de la producción industrial avanzan a velocidades muy diferentes. Mientras las fábricas estudian cómo integrar la generación tecnológica actual en sus procesos de trabajo, la investigación ya prepara el terreno para el siguiente salto.

¿Pensáis que diez años es mucho tiempo para dar este salto en los semiconductores? ¡Queremos leer vuestras opiniones y abrir debate en la comunidad de BeersStorming!