Jensen Huang lo tiene claro: China tendrá litografía avanzada para 2030

Jensen Huang, el director general de Nvidia, no se anda con chiquitas a la hora de analizar a la competencia. En una entrevista en The All-In Podcast, el directivo se ha mostrado tajante: está convencido de que China dispondrá de sus propios equipos de fotolitografía avanzada a más tardar en 2030. Según Huang, este hito del mayor rival tecnológico de Estados Unidos está a la vuelta de la esquina.

Para entender la importancia de esto, conviene explicar qué hace exactamente una máquina de litografía. Para entendernos de forma sencilla, imaginemos estas herramientas como imprentas fotográficas de superprecisión encargadas de grabar los patrones geométricos de los circuitos sobre las obleas. Sin estas imprentas de alta tecnología, fabricar procesadores modernos es simplemente imposible.

La visión del máximo responsable de Nvidia no es descabellada y cuenta con antecedentes cercanos. A finales del pasado mes de julio, la publicación The Information aseguró que una empresa china ha comenzado a fabricar en serie sus propias máquinas de litografía de ultravioleta profundo (UVP) de inmersión, la herramienta básica para grabar esos patrones en el silicio.

El desarrollo no se detiene ahí. Existen dos proyectos respaldados por el Estado chino que persiguen llevar a buen puerto el desarrollo de equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE). El objetivo de estos programas es ser capaces de producir a gran escala chips de 5 nanómetros o menos.

¿Creéis que el gigante asiático logrará alcanzar esta meta para 2030 como prevé el CEO de Nvidia? ¡Dejad vuestra opinión y debatamos en la comunidad BeersStorming!